磁控溅射是一种磁控运行模式的二次溅射。此种技术广泛应用于镀膜设备上，它不仅合用于广泛的镀膜靶材（如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料），而且镀膜时还可大幅度进步膜层的附着力、重复性、致密度和平均度。




一、应用背景
磁控溅射镀膜设备主要是使用直流磁控溅射，常需要2路输出不乱的直流电源，设定一个电压值后，要求快速响应到电压的设定值。电源使用过程中必需保持不乱性，电压数值不能受负载影响。然而，市道市情上常用的开关电源为开环控制，无法确保不乱输出，而一个不乱的电压对镀膜好坏至关重要，因此设想通过PLC的PID算法，利用现有的直流开关电源，实现电源的快速调节和闭环治理。




二、PLC的选型与特点
在智能电源控制系统上需要4AI来检测两路直流稳压电源的电流信号和电压信号，作为智能电源的反馈信号；需要使用2AO来控制电压输出，使电源具有良好的负载特性，保持恒压输出。




自动化PLC控制系统应用在智能电源控制上，可根据负载的变化，在线监控时结合软件自带的实时曲线表调整参数，一一调整PID三个参数使之达到最好的效果。









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